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胡传胜; 袁泽喜;
武汉冶金科技大学;
镀层 ; 氮化钛 ; 化学气相沉积 ; 低温 ;
机译:具有四(二乙基氨基)钛和氨系统的氮化钛膜的激光化学气相沉积
机译:肼和四(二甲基氨基)钛的氮化钛薄膜的低温化学气相沉积
机译:通过化学气相沉积在室温下通过离子注入在室温下通过离子植入浓度的极高效率激活,通过化学气相沉积,在外延合成的金刚石膜中进行各种掺杂浓度
机译:四(二甲基氨基)钛与肼作为共反应物的氮化钛和氮化硅氮化硅薄膜的化学气相沉积。
机译:二硅化钴/硅,氮化钛/硅,硅/氮化钛/硅和铜/氮化钛/硅异质结构的激光加工,性能和理论模型。
机译:稀甲烷和熔融镓催化剂在近室温下化学气相沉积石墨烯
机译:低温下类二氧化硅薄膜的等离子体辅助化学气相沉积的优化低温下类石英薄膜的等离子体辅助化学气相沉积的优化
机译:使用热线化学气相沉积在低温下生长同质外延硅
机译:低温下氮化钛的金属有机化学气相沉积方法
机译:在低温下化学气相沉积氮化钛膜的方法
机译:修正的减压化学气相沉积法无效,以使氮化钛薄膜积聚,从而使稳定性低的电阻率降低
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