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应用材料公司推出全新刻蚀系统实现原子级生产精度

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·全新的Centris^TM Sym3^TM刻蚀系统采用创新腔室架构，可使材料清除达到原子级精度·该系统已成功安装于多家客户的主要生产线中。

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《电子工业专用设备》 |2015年第7期|22-22|共1页
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正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
应用材料公司; 原子级; 生产线; 系统; 精度; 刻蚀; 腔室; 蚀刻;

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