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童志义;
无;
离轴照明; 光刻; 容限; 步进机;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:光刻中用于轴外照明的光瞳整形方法
机译:通过使用i-linestepper和离轴照明技术,可在0.3至0.35um的图案上实现光刻性能,
机译:使用相移掩模在高数值孔径光刻中表征偏振照明。
机译:在非洁净室环境中使用干膜光刻胶对用于微流控设备的软光刻母版进行快速原型制作
机译:结合相移和离轴照明的增强型微光刻
机译:使用表面等离子体增强照明的无掩模光刻
机译:轴外照明装置和光刻技术及轴外照明方法
机译:使用离轴照明进行光刻图案化的掩模
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