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下一代光刻技术

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摘要

介绍了下一代光刻技术的演变,重点描述了浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术和无掩模光刻技术的基本原理、技术优势、技术难点以及研发,并展望了这几种光刻技术的前景.

著录项

来源
《电子工业专用设备》 |2005年第11期|27-33|共7页
作者
佟军民; 胡松; 余国彬;
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作者单位

中国科学院光电技术研究所,成都,610209;

中国科学院研究生院,北京,100039;

中国科学院光电技术研究所,成都,610209;

中国科学院光电技术研究所,成都,610209;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
下一代光刻技术; 浸没式光刻技术; 极端远紫外光刻技术; 纳米压印光刻技术; 无掩模光刻技术;

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