首页> 中文期刊> 《电子工业专用设备》 >采用高压NMP实现全自动去胶技术

采用高压NMP实现全自动去胶技术

             

摘要

LED加工工序中,需要对晶圆表面进行去胶处理.针对LED去胶工序研究了一种去胶方法,并开发出了一种享有专利的晶圆表面金属剥离及光刻胶去除工艺及自动去胶设备,该工艺方法可去除LED表面金属层及光刻胶,并且将人工去胶的三道工艺程序整合到一起.采用该方法的全自动去胶设备,通过实验比对,能够达到良好的LED晶圆去胶良率.结尾列出了利用该方法与目前常见的人工去胶相比的多种优点.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号