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孙健; 刘勇; 谭卫东;
中国电子科技集团公司第55研究所,南京211111;
自掺杂效应; Offset-chart; 高温烘烤工艺;
机译:选择性外延生长硅双极晶体管用于材料表征
机译:硅氮共掺杂高电阻率卤化物气相同质外延β-Ga_2O_3薄膜
机译:通过高电阻率(111)取向硅表面上的原子置换新方法生长的外延碳化硅膜
机译:晶体生长过程中200mm(8英寸)FZ硅的平面内电阻率分布的数值分析
机译:用于纳米级CMOS集成电路的硅,硅锗和硅碳源极/漏极结的低电阻率接触方法。
机译:集成低电容二极管的掺砷高电阻率硅外延层
机译:通过在高电阻率的表面上更换原子的新方法生长的外延碳化硅膜(111)取向硅
机译:高电阻率硅发光现象的研究及低电阻率硅隧道电特性研究年度进展报告,1968年9月20日 - 1969年9月19日
机译:双极晶体管包括用于高频操作的硅层,第一类型的硅外延层,硅锗外延层和第二类型的硅外延层
机译:N型硅外延层的电阻率测量方法
机译:碳添加可实现低电阻率原位掺杂硅外延
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