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抗蚀剂; 集成电路; 刻蚀技术;
机译:光刻材料(光致抗蚀剂•多层材料•BARC)14年抗蚀剂市场增长了8%通过全面引入DPT领先的ArF通过先进的PKG探索商机
机译:引入光致抗蚀剂材料等。EUV与imec合资生产抗蚀剂
机译:复杂分子刷体系结构的先进光致抗蚀剂技术:基于双嵌段刷三元共聚物的正性光致抗蚀剂材料
机译:通过在欲望过程中的过程条件变化和抗蚀剂材料变化的柔软型谱与抗蚀剂抗蚀剂的关系研究
机译:瞬态材料:触发分子玻璃光致抗蚀剂和热敏聚碳酸酯的变化
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:聚氨酯树脂作为抗蚀剂用于准分烧蚀光刻(EAL)的抗蚀剂材料。
机译:EUV抗蚀剂材料的关键挑战。
机译:抗蚀剂下层膜材料的形成“在低温后施加烘烤时具有足够的耐溶剂性的抗蚀剂下层膜”,用于抗蚀剂下层膜材料的聚合物的制造方法以及使用抗蚀剂的膜材料形成方法
机译:萘衍生物,其制造方法,抗蚀剂下层材料和抗蚀剂下层形成方法以及适合于多层抗蚀剂下层抗蚀剂膜材料的图案形成方法
机译:对抗蚀剂保护膜形成材料使用浸没曝光法的抗蚀剂图案形成方法,由该保护膜形成材料构成的抗蚀剂保护膜和抗蚀剂保护膜
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