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抗蚀剂; 集成电路; 微细加工; 蚀刻;
机译:光刻材料(光致抗蚀剂•多层材料•BARC)14年抗蚀剂市场增长了8%通过全面引入DPT领先的ArF通过先进的PKG探索商机
机译:研究人员提交专利申请,“抗蚀剂底层膜材料、图案化工艺和形成抗蚀剂底层膜的方法”,以供批准(USPTO 20210397092)
机译:研究人员提交专利申请,“用于形成底层薄膜的材料、抗蚀剂底层薄膜、生产抗蚀剂底层薄膜的方法和层压板”(USPTO 20230185195)
机译:通过在欲望过程中的过程条件变化和抗蚀剂材料变化的柔软型谱与抗蚀剂抗蚀剂的关系研究
机译:极紫外光致抗蚀剂:薄膜抗蚀剂的薄膜量子产率和LER。
机译:形成抗蚀剂图案的方法,抗蚀剂图案分散剂,分裂图案改进剂,抗蚀剂图案分散材料以及形成抗蚀剂图案的正抗蚀剂组合物
机译:抗蚀剂下层膜材料的形成“在低温后施加烘烤时具有足够的耐溶剂性的抗蚀剂下层膜”,用于抗蚀剂下层膜材料的聚合物的制造方法以及使用抗蚀剂的膜材料形成方法
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