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姚汉民; 刘业异;
中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室;
准分子激光投影光刻; x射线光刻; 极紫外光刻; 电子束投影光刻; 离子束投影光刻; 微电子; 光刻技术;
机译:更正'参数化单次发射方法的工艺优化,以直接生产直接光刻技术快速生产光子sirve',微电子工程,第209卷,2019年3月15日,第41-48页
机译:更正'参数化单次发射方法的工艺优化,以直接写入光刻技术快速生产光子sirve',《微电子工程》,第209卷,2019年3月15日,第41-48页
机译:半导体微波微电子技术中的离子束光刻
机译:下一代微电子工艺技术:纳米压印光刻
机译:用于高级微电子封装的压印光刻和光敏聚合物的表征。
机译:SU-8光刻胶的185 nm扩散光光刻技术原型制作的具有轴突分离的微流体长期梯度发生器
机译:大小函数的统计方面,用于描述随机形状。在微电子学中的光刻技术中的应用
机译:基于自组装的微电子制造和器件方法:表面钝化,软光刻,电功能系统和分层自组装
机译:包含193-NM光刻技术和层堆叠的双层光敏显影剂底部可溶反反射涂层的微电子结构的形成方法
机译:使用高对比度对位标记的微电子光刻技术
机译:微电子技术中的三角形截面导电金属迹线形成,例如光伏电池的生产,涉及在通过光刻获得的树脂轨道上形成金属轨道
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