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Corrigendum to 'Process optimization of parameterized single shot method for a rapid production of photon sireve with direct write lithography' Microelectronic Engineering, Volume 209, 15 March 2019, Pages 41-48

机译:更正'参数化单次发射方法的工艺优化,以直接写入光刻技术快速生产光子sirve',《微电子工程》,第209卷,2019年3月15日,第41-48页

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  • 来源
    《Microelectronic Engineering》 |2019年第7期|110995.1-110995.1|共1页
  • 作者

    Ruzgar Kemal; Bacioglu Akin;

  • 作者单位

    Hacettepe Univ Dept Phys Engn TR-06800 Ankara Turkey|TUBITAK Space Technol Res Inst TR-06800 Ankara Turkey;

    Hacettepe Univ Dept Phys Engn TR-06800 Ankara Turkey;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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