磁控溅射SiN_x薄膜的表面动态演化行为

摘要

采用射频磁控溅射法在石英玻璃和不锈钢基底上沉积SiNx薄膜,以SEM和AFM观察薄膜的表面形貌,检测粗糙度和颗粒度大小对薄膜表面形貌动态演化进行量化表征。结果表明:石英玻璃基片SiNx薄膜较不锈钢基片薄膜更为均匀致密,且颗粒更为细小;真空退火处理有利于细化SiNx薄膜颗粒,减小其表面粗糙度;在溅射功率为125～175W范围内,SiNx薄膜颗粒平均直径高达41.0nm,其rms以及颗粒度在75W时受氩气溅射压强的影响大。