脉冲激光沉积ZrW_2O_8/ZrO_2复合薄膜及其靶材制备

摘要

采用化学共沉淀法合成26wt%ZrW2O8/ZrO2近零膨胀复合陶瓷靶材,并以脉冲激光法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8/ZrO2复合薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、热膨胀仪、扫描电子显微镜（SEM）研究了复合靶材的晶体结构、热膨胀性能和致密度,同时也探索了热处理温度对复合薄膜的相组成和表面形貌的影响。结果表明：合成的靶材由-αZrW2O8和m-ZrO2组成,26wt%ZrW2O8/ZrO2复合靶材在30℃-600℃的热膨胀系数为-0.5649×10^-6K^-1,近似为零,且靶材致密、均匀;脉冲激光沉积制备的薄膜为非晶态,表面平滑、致密,随着热处理温度的升高,薄膜开始结晶,在1200℃热处理6min后得到纯ZrW2O8/ZrO2复合薄膜,且两相物质在膜层中分散均匀,结晶后的薄膜存在一些孔洞缺陷。