等离子体增强液态源MOCVD系统的研制

摘要

本文介绍了一台新型等离子体增强液态源MOCVD系统。系统由液态源汽化装置、反应室、等离子体产生装置、真空系统及自动控制系统等主要部分组成。该系统采用了由超声雾化器和加热腔组成的液态源汽化装置,将液态源转变成气态供给反应室沉积薄膜。为了提高金属有机物的化学反应活性,在有布气盒结构的反应室基础上,引入了射频等离子体。真空控制采用了由蝶阀、真空规和机械增压泵组成的闭环控制系统。自动控制系统的设计基于PLC和触摸屏,通过触摸屏完成工艺参数设置及实时数据显示,通过PLC完成系统控制。使用该液体输送MOCVD系统在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上沉积了锆钛酸铅铁电薄膜。实际应用证明,该系统结构紧凑,高度自动化以及控制灵活,适合于制备高质量的复合金属氧化物薄膜。