高质量金刚石膜在无氧铜衬底上的MPCVD

摘要

本文采用高纯无氧铜 (Cu)片作为基片 ,用自行设计的微波等离子体化学气相沉积系统 ,制备出了高质量多晶金刚石膜。用场发射扫描电子显微镜 (SEM)、Raman散射谱和X射线衍射谱 (XRD)对制备的金刚石膜进行了表征与分析 ,其结果证明金刚石膜具有较优的质量。