离子束辅助沉积氧化镁薄膜

摘要

为了获得等离子体显示器的介质保护膜，利用离子束辅助沉积技术制备了致密的ＭｇＯ薄膜：通过Ｘ射线衍射仪、扫描电镜、光电子能谱分析了ＭｇＯ 薄膜的特性及特性和工艺参数之间的关系。结果表明：薄膜主要显示（２００）晶面的择优取向；从断面形貌、密度及折射率来看，离子束辅助沉积制备的ＭｇＯ 薄膜比电子束蒸发制备的ＭｇＯ薄膜更致密，薄膜和基底间的结合力更强；离子能量，基底温度，沉积速率及退火处理影响薄膜的结晶，离子能量为１ｋｅＶ时，薄膜结晶性最好，在离子能量固定为１ｋｅＶ时，基底温度或沉积速率降低都能提高薄膜的结晶度；空气中退火有助于薄膜的进一步生长。