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赵方红; 庄大明; 张弓; 姬杨玲;
清华大学机械工程系;
基体温度; ZGO薄膜; 磁控溅射; 电阻率; 透射率;
机译:磁控溅射技术制备的镓镁共掺杂氧化锌薄膜的微结构和光电性能
机译:铟的添加和后退火对直流磁控溅射沉积镓掺杂氧化锌薄膜的结构,电学和光学性能的影响
机译:沉积距离和温度对射频磁控溅射镓掺杂氧化锌的电,光和结构性能的影响
机译:直流磁控溅射制备二氧化钛掺杂的氧化锌(ZNO:TI)和镓掺杂的氧化锌(ZNO:GA)薄膜的退火效应
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:只需在Pr6O11中热浸氧化锌薄膜即可获得高性能压敏电阻:温度的影响
机译:衬底温度对直流磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:使用第III族盐和氧化锌薄膜的氧化锌薄膜的制造方法,该氧化锌薄膜具有为氧化锌薄膜提供优异的光学和电学性能
机译:活性直流磁控溅射法在石英基体上形成与高性能紫外波长区域相对应的氟化物光学薄膜的方法
机译:氧化锌薄膜的形成装置,氧化锌薄膜的形成以及使用该薄膜的半导体装置基体和光伏元件的生产
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