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王建军; 吕反修; 于文秀; 佟玉梅; 邬钦崇; 王守国;
北京科技大学;
中国科学院等离子体物理研究所;
金刚石薄膜; 微波等离子体; 化学气相沉积;
机译:微波等离子体化学气相沉积和热丝化学气相沉积技术在硅衬底上生长金刚石薄膜的比较研究
机译:在金刚石化学气相沉积相关条件下,在金刚石化学气相沉积的条件下运行的微波激活氢等离子体的空间附加光发射和建模研究
机译:微波等离子体化学气相沉积合成的硼掺杂金刚石薄膜的场排放研究:真空退火的影响
机译:通过微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)合成和表征金刚石薄膜。
机译:He / H2 / CH4 / N2混合物的微波等离子体化学气相沉积法沉积超光滑纳米结构金刚石(USND)涂层的合成及机械磨损研究
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究
机译:用于研究仪器的pECVD(等离子体增强化学气相沉积)金刚石薄膜
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
机译:化学气相沉积反应器通过微波等离子体化学气相沉积生长金刚石膜
机译:微波等离子体化学气相沉积反应器和沉积多晶金刚石薄膜的方法
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