机译:微波等离子体化学气相沉积和热丝化学气相沉积技术在硅衬底上生长金刚石薄膜的比较研究
机译:微波等离子体辅助和热丝化学气相沉积法生长金刚石薄膜电性能的比较研究
机译:通过热丝化学气相沉积技术在Si(100)衬底上生长的Si和N掺杂金刚石薄膜的拉曼光谱,光致发光和形态研究
机译:在In0.82Al0.18As上通过电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积生长的氮化硅膜的界面特性
机译:重新检查通过热丝和微波等离子体化学气相沉积法生长的金刚石薄膜的拉曼线形
机译:通过微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)合成和表征金刚石薄膜。
机译:使用He / H2 / CH4 / N2气体混合物通过微波等离子体化学气相沉积法合成超光滑纳米结构金刚石膜
机译:热丝化学气相沉积选择性沉积的金刚石和硅树脂薄膜