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马丽娜; 郭霞; 沈光地;
北京工业大学北京市光电子技术实验室;
Ⅲ族氮化物; 湿法腐蚀; ICP刻蚀;
机译:光电化学刻蚀电流孔径对Ⅲ族氮化物激光二极管中粗糙度引起的散射损耗的估计
机译:III族氮化物宽带隙半导体的干法刻蚀
机译:Ⅲ族氮化物基深紫外发光二极管的外部量子效率研究进展
机译:快速原子束刻蚀制备梳状驱动III族氮化物微镜
机译:用于MM波应用的先进的III族氮化物技术
机译:位移Talbot光刻技术用于III族氮化物材料的纳米工程
机译:分子束外延法研究p型III族氮化物纳米线的研究进展
机译:磁控管增强型反应离子刻蚀III族氮化物半导体材料
机译:III族氮化物半导体的刻蚀方法,III族氮化物晶体的制造方法和GAN基质的制造方法
机译:刻蚀III族氮化物半导体的方法,生产III族氮化物半导体晶体的方法和生产GaN衬底的方法
机译:刻蚀第三族氮化物半导体的方法,第三族氮化物晶体的制造方法以及GaN基体的制造方法
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