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李中杰; 林宏; 姜学松; 王庆康; 印杰;
上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室;
微米/纳米加工技术国家级重点实验室;
上海200240;
化学化工学院高分子材料研究所;
紫外纳米压印; 微/纳米尺寸图形; 硅片衬底修饰; 抗粘连层; 图案复制;
机译:全氟三氯硅烷防粘层的降解:对模具清洁,紫外线-纳米压印和粘结式紫外线-纳米压印模具的影响
机译:纳米压印光刻胶防粘涂料的研究
机译:脱模力对紫外线纳米压印光刻胶成分的影响
机译:高温热纳米压印光刻(TNIL)工艺的计算研究。
机译:使用具有各种微/纳米比的印模进行的紫外线纳米压印光刻的抗蚀剂填充研究
机译:UV-纳米压印光刻胶中填充胶行为的数值模拟与实验研究
机译:聚合物膜厚度和腔体尺寸对压花过程中聚合物流动的影响:纳米压印光刻的工艺设计规则
机译:用于热纳米压印光刻的模具,其制造工艺以及使用该模具的纳米压印工艺。
机译:用于热纳米压印光刻的模具,其制造工艺以及使用该模具的纳米压印工艺
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