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周晶晶; 肖少庆; 姚尧; 顾晓峰;
江南大学电子工程系物联网技术应用教育部工程研究中心;
SiNx; 等离子体化学气相沉积; 表面钝化; 容性放电;
机译:先进的低电子温度微波激发高密度等离子体系统在低温(400)和高生长速率下用于半导体器件制造的氧化硅和氮化硅薄膜的生长
机译:低温电感耦合等离子体化学气相沉积法研究高折射率氮化硅薄膜及其在集成波导中的应用
机译:研究通过低温等离子体化学沉积形成的非化学计量氮化硅薄膜的光学性质和表面结构,以用于MEMS结构。
机译:一种基于PEVCD氮化硅用于高效硅太阳能电池PEVCD氮化硅的一种新型掩模低温后表面钝化方案
机译:低温下基于MEMS的氮化硅薄膜材料和器件,用于太空应用。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:掺磷氮化硅薄膜钝化特性的研究
机译:通过氮化硅薄膜沉积研究硅表面钝化:最终报告,1983年9月1日 - 1986年8月31日
机译:氮化硅作为抗反射膜的无硅烷等离子体辅助CVD沉积以及基于硅电池的光电池的氢钝化
机译:氨等离子体钝化处理氮化硅钝化以提高AlGaN / GaN HEMT的可靠性
机译:保形氮化硅碳膜和保形氮化硅层的低温等离子体化学气相沉积
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