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邹文祥; 赖珍荃; 刘文兴;
南昌大学物理系;
AlN薄膜; 溅射气压; 结构; 表面粗糙度;
机译:直流(DC)-反应性磁控溅射制备的氮化铝(AlN)薄膜的表面金属态:非相干光的光谱分析
机译:脉冲直流磁控溅射压电AlN和AlScN薄膜的表面形貌和微观结构
机译:射频和直流磁控溅射制备的Si-C-N薄膜的结构,表面形貌和力学性能
机译:直流磁控溅射制备的AlN / CrN超晶格涂层的晶体结构,硬度和热稳定性
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:RF磁控溅射AlN,Aln-TiN薄膜的制备。
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
机译:AlN外延晶体,其制造方法,使用晶体,光发射器件,表面声波器件和溅射装置制备III族氮化物薄膜的基本基质
机译:磁控溅射法在半导体异外延结构表面上沉积薄膜涂层的方法
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