机译:基板温度对射频磁控溅射沉积a-SiC:H薄膜的(微米/纳米)结构的影响。
机译:射频功率对射频磁控溅射沉积在Ti6A14V上的羟基磷灰石薄膜性能的影响。
机译:射频功率对射频磁控溅射沉积在Ti6A14V上的羟基磷灰石薄膜性能的影响。
机译:膜厚度对反应性DC磁控溅射沉积的Alcrn纳米组合薄膜结构和力学性能的影响。
机译:使用RF平面磁控管溅射制备碲化镉和硫化镉薄膜。
机译:更正:SinnarasaI。等。射频磁控溅射制备铜铁矿CuCrO2:Mg薄膜的热电和输运性质。纳米材料20177157
机译:RF磁控溅射制备Bi-PB-SR-CA-CU-O超导膜。
机译:磁控溅射沉积电解质和阴极薄膜。