KOH溶液中(110)硅片腐蚀特性的研究

摘要

研究了在KOH溶液中(110)硅片的腐蚀特性,在保证(110)面的平整和｛111｝面的光滑的腐蚀实验条件下,利用(110)面和｛111｝面腐蚀选择比大,采用湿法腐蚀技术可以制作高深宽比结构的方式,在(110)硅片上设计制作出光开关用微反射镜。在腐蚀过程中光开关悬臂的凸角处产生了削角现象,利用表面硅原子悬挂键的分布特征对产生削角的原因作了合理解释,这为以后研究凸角补偿提供了理论依据。