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刘沙沙; 秦福文; 朱巧智; 刘冰冰; 汤斌; 王德君;
大连理工大学电子信息与电气工程学部电子科学与技术学院;
大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室;
二氧化硅; 碳化硅界面; 金属氧化物半导体电容; 氮钝化; 界面态密度; Gray-Brown法;
机译:氮等离子体和氧等离子体在提高4H-SiC MOS电容器界面质量和偏置温度不稳定性的协同钝化效应
机译:低温氧化和氮钝化对C面4H-SiC MOS界面的影响
机译:具有硅酸镧钝化中间层的4H-SiC MOS电容器的界面和电特性增强
机译:SiO_2 / 4H-SIC界面处的氮和氢诱导捕获钝化钝化
机译:具有硅界面钝化层的III-V MOS器件的电学特性研究。
机译:合金耐腐蚀钢Cr10Mo1在模拟混凝土孔隙溶液中的钝化特性:pH和氯化物的组合效应
机译:SiC / SiO2在基于N基的4H-SiC MOS电容器中的界面特性,用PECVD制造,没有退火工艺
机译:4H-碳化硅导电带边缘附近界面态的氮钝化
机译:SIO 2 / SIC结构中界面态的氮钝化
机译:SiO 2 Sub> / SiC结构中界面态的氮钝化
机译:IO2 / SIC结构中界面态的氮钝化
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