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韩军; 柴常春; 杨银堂; 曾晓;
西安电子科技大学微电子所;
碳化硅场效应晶体管; 特性模拟; 界面陷阱;
机译:静电力显微镜研究界面相关电荷陷阱和高k基陷阱结构的损耗特性
机译:在界面陷阱存在下垂直超薄体(VSTB)FET的性能和相应的噪声和射频特性的见解
机译:存在界面陷阱时4H-SiC绝缘栅双极晶体管的增强的Miller平稳特性
机译:在存在SiO2 / SiC界面陷阱和固定氧化物的情况下对4H-SiC DMOSFET的I-V-T特性建模
机译:CMOS VLSI和EEPROMs绝缘子中电离辐射诱导的电荷陷阱和界面陷阱产生的研究。
机译:在存在随机界面陷阱的情况下16nm栅极高κ/金属栅极体FinFET器件的电特性波动
机译:估算mOs氧化物阱,界面陷阱和边界陷阱密度的简单方法。
机译:研究压电陶瓷元件需要将加热元件的相位或阻抗特性与标准特性进行比较,以检测内部缺陷的存在与否
机译:用于研究动态特性的方法和装置,所述动态特性是包括柔性薄片合成材料的复合材料的粘弹性温度的函数
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