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王传新; 汪建华; 马志斌; 满卫东; 王升高; 康志成; 吴素娟;
中国科学院等离子体物理研究所;
武汉化工学院湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室;
化学气相沉积; 低偏压生长; 金刚石薄膜; 图像;
机译:微波等离子体化学气相沉积和热丝化学气相沉积技术在硅衬底上生长金刚石薄膜的比较研究
机译:在热灯丝辅助化学气相沉积系统中,使用CH_4 + H_2气体的N_2掺和物生长的金刚石薄膜的形貌逐渐过渡
机译:热丝化学气相沉积沉积纳米晶金刚石薄膜的生长动力学:低粘着和成核过程的影响
机译:低压金属化学气相沉积(MOCVD)作为前体的低压金属化学气相沉积(MOCVD)生长氧化铒和氧化钆高k介电薄膜的对比研究
机译:化学气相沉积金刚石和非晶硅碳合金薄膜生长和成核的研究
机译:二硒化钛薄膜的区域选择性生长低压化学气相沉积成微图案化基材的薄膜沉积
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究
机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积技术的比较研究。
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
机译:化学气相沉积反应器通过微波等离子体化学气相沉积生长金刚石膜
机译:氧化物生长的化学气相沉积方法巨大的磁致电阻的氧化物生长薄膜的化学气相沉积方法
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