气相沉积BN膜的性能及形成机制的研究

摘要

用射频等离子体辅助化学气相沉积技术制备了ＢＮ膜．对以Ａｒ＋１０％Ｈ２（体积分数）、Ｈ２和Ｎ２气为载气沉积的膜，进行了ＦＴＩＲ，ＴＥＭ，ＳＥＭ等分析，比较了不同载气下膜层的立方氮化硼含量、膜基结合力、膜层残余应力、硬度和耐磨性．对立方氮化硼的形成机制进行了探讨．