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国外椭偏仪性能简介

         

摘要

<正>各种薄膜工艺参数和质量(厚度、折射率的数值及其均匀性等)的精确、快速测定和控制,在半导体器件生产、研制中有着极其重要的作用.现综合评述美国Rudolph研究公司应用材料公司、Gaertner科学公司和Sagax国际公司开发的从手动到自动椭偏仪系列的几代椭偏仪产品,并和其它薄膜厚度测量技术进行比较.

著录项

  • 来源
    《半导体技术 》 |1987年第6期|52-55|共4页
  • 作者

    冯长川;

  • 作者单位

    苏州半导体总厂;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
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