退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
Li Jiang; Feng Chen; PuLei Zhu; Mingqi Li; Hongtao Liu; Guanping Wu; Ming Zhong; AoDong He;
1. Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corp 2. Shanghai Institute of Micro-system and Information Technology;
Chinese Academy of Sciences;
机译:PCRAM CMP工艺中钨塞腐蚀的研究与改进
机译:光刻胶,CMP浆料,Low-k材料的开发及其问题45nm节点及以后的材料开发
机译:照片寄存器的开发,CMP浆料,低K材料和材料开发对应于45nm节点
机译:适用于45nm PCRAM的GST CMP挑战与解决方案
机译:CMP过程中的磨料颗粒轨迹和材料去除不均匀性以及CMP浆料的过滤特性-模拟和实验研究。
机译:中欧和东欧的医疗设备QUO VADIS HTA?解决方法论挑战的建议
机译:考虑CMP图案效应的45nm工艺互连薄层电阻模型
机译:采用45nm绝缘硅互补金属氧化物半导体(sOI CmOs)的94GHz温度补偿低噪声放大器。
机译:GST CMP GST CMP泥浆
机译:用于GST的CMP浆料
机译:GST CMP浆液
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。