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傅正文; 周鸣飞; 张胜坤; 陈良尧; 秦启宗;
复旦大学激光化学研究所;
复旦大学物理系;
上海200433;
脉冲激光沉积; 电学性能; 介电性能; 二氧化钛; 薄膜;
机译:通过脉冲激光沉积在MgO(001)衬底上生长的Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3-Bi_(1.5)ZnNb_(1.5)O_7复合薄膜的介电性能和异常C-V特性
机译:离子束通过脉冲激光沉积在Si(111)表面沉积的TiO_2薄膜中的化学和形态变化
机译:通过混合沉积结构制备Bi:TiO_2薄膜:脉冲激光沉积和热蒸发
机译:通过脉冲激光沉积和耐疲劳性C-V特性在低温下制备SR_(0.7)Bi_(2 + X)Ta_2O_9薄膜,耐脉冲激光沉积,耐疲劳的C-V特性,具有大的内存窗口
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积对掺杂β-(ALXGA1-X)203薄膜生长的影响。通过脉冲激光沉积对C-Sapphire底物薄膜的生长
机译:脉冲激光沉积技术获得的nGaas-nInsb异质结的I-V和C-V特性。
机译:具有分离靶材的脉冲激光沉积装置以及使用该装置的多层薄膜的沉积方法
机译:限制脉冲激光沉积方法沉积亚稳薄膜
机译:分段靶的脉冲激光沉积装置及多层超薄膜的沉积方法
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