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杨德威; 李赛; 杨雯; 杜凯翔; 马春阳; 葛文; 杨培志;
云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室;
昆明650500;
锐钛矿型TiO2; 原子层沉积(ALD); 微波退火(MWA); 表面形貌; 消光系数;
机译:原子层沉积和低退火温度的锐钛矿型TiO2薄膜的电性能
机译:微波退火对原子层沉积ZnO薄膜的影响
机译:热退火对等离子体增强原子层沉积沉积铝氧化铝薄膜电介质,钝化和pH检测性能的影响
机译:退火气氛对原子层沉积生长ZnO薄膜光电性能的影响
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:退火处理和原子层沉积对Au / Pt纳米粒子修饰的TiO2纳米棒光催化性能的影响
机译:沉积后退火对通过等离子体增强原子层沉积在p-Si上生长的β-Ga2O3薄膜的电学性能的影响
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。
机译:在基板上产生隔离薄膜的过程包括基板上硅原子层的原子沉积,基板上硅原子层上的氧原子层和基板上金属原子层的原子沉积,金属原子层上的氧原子层的原子沉积。
机译:用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
机译:使用能提高薄膜的电性能和沉积性能可靠性的源喷射器形成原子层沉积设备的薄膜的方法
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