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王建超; 牛新环; 李睿琦; 赵欣;
河北工业大学电子信息工程学院;
天津300130;
天津市电子材料与器件重点实验室;
蓝宝石; 化学机械抛光(CMP); 去除速率; p; H调节剂; 混合碱;
机译:pH调节剂对蓝宝石衬底CMP的影响
机译:光学电子单晶衬底的精密加工技术-超精密CMP和蓝宝石,氮化镓和碳化硅衬底的表面损伤评估
机译:果蝇直系同源物的脊椎动物高尔基体pH调节剂(GPHR)蛋白的突变扰乱内质网和高尔基体组织,影响全身生长果蝇直系同源物的脊椎动物高尔基体pH调节剂(GPHR)蛋白的突变体扰动内质网和高尔基体,影响全身生长果蝇直立同源的脊椎动物高尔基体pH调节剂(GPHR)蛋白的突变干扰内质网和高尔基体的组织,并影响系统性生长
机译:不同抛光参数对蓝宝石衬底CMP的影响
机译:氮化镓/蓝宝石界面和蓝宝石衬底上缓冲层的TEM表征通过MOCVD。
机译:固溶条件对镀铂蓝宝石衬底上溶胶-凝胶衍生铌酸钾钠薄膜性能的影响
机译:用于LED的蓝宝石衬底的超精密CMP工艺及其对PSS制造的应用
机译:杂质对蓝宝石衬底上铝膜粘附的影响
机译:包含胶体颗粒,氧化剂,络合剂,抗氧化剂,胺基pH调节剂和水的铜抛光剂的CMP的淤浆成分,以及使用该成分的CMP方法
机译:用于生产半导体微电子或光电子部件的蓝宝石衬底的生产包括沿着蓝宝石晶体的晶体学a轴将衬底与蓝宝石晶体分离。
机译:制备涂覆有半导体材料的蓝宝石衬底的方法,通过该方法可获得的涂覆的蓝宝石衬底以及这种衬底在发光二极管中的用途
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