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夏伟锋; 冯飞; 王权; 熊斌; 戈肖鸿;
中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海200050;
江苏大学机械学院,江苏镇江212013;
KOH腐蚀; 各向异性; 表面粗糙度;
机译:KOH和TMAH中各向异性湿化学腐蚀过程中单晶硅表面的微观形貌
机译:KOH各向异性湿化学腐蚀过程中单晶硅表面的微观形貌:速度源森林
机译:碱性溶液中的硅各向异性蚀刻III:关于在KOH和KOH加IPA溶液中Si(100)各向异性蚀刻过程中形成空间结构的可能性
机译:KOH和KOH / IPA蚀刻对用于聚合物波导压印的硅模具表面粗糙度的影响
机译:预处理,抑制剂和其他影响表面成分对铝铜镁合金2024-T3的底漆腐蚀的作用。
机译:KOH溶液中Si的一步各向异性湿法腐蚀制备的两层微结构
机译:改变表面张力在KOH和TMAH中进行硅各向异性蚀刻
机译:表面预处理对aa2024-T3不同温度下涂层腐蚀的影响
机译:碱性水溶液,特别是用于各向异性蚀刻半导体材料的水溶液,例如硅,包含五族元素或化合物以实现低表面粗糙度
机译:测试建立了研究表面粗糙度对风力涡轮机研究模型中引发的电压闪变的影响。
机译:进行成像的电磁学研究中,进行传导的方法和系统消除了套管,井眼和表面粗糙度的影响
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