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梁亦然; 夏继业; 梁学磊;
北京大学纳米器件物理与化学教育部重点实验室;
北京100871;
薄膜晶体管; 材料制备; 碳纳米管; 开关比; 短沟道; 电泳法; 边缘场; 载流子迁移率;
机译:场增强机制和冲击电离对短沟道多晶硅薄膜晶体管阈值电压的作用
机译:两步介电泳法制备的单串碳纳米管场效应晶体管
机译:高栅极和漏极偏置应力下短沟道p型多晶硅薄膜晶体管的可靠性
机译:介电电泳法制备的半导体型碳纳米管沟道FET型气体传感器的NO_2气体响应
机译:短沟道多晶硅薄膜晶体管的表征和建模。
机译:原子层沉积技术制备的双层沟道AZO / ZnO薄膜晶体管
机译:基于单壁碳纳米管网络的p沟道,n沟道薄膜晶体管和p-n二极管
机译:提高用于高重复频率,短脉冲,高功率脉冲发生器的功率mOsFET的开关性能
机译:一种利用电泳法制备水平取向碳纳米管场致发射体的方法
机译:电泳法制备水平对准碳纳米管场致发射体的方法
机译:电泳法制备碳纳米管场致发射器的方法
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