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阮璐; 李典伦; 吴朝兴; 严子雯; 陈桂雄; 林金堂; 严群; 孙捷;
福州大学物理与信息工程学院;
福州350108;
氧化铝(Al2O3); 化学液相沉积(CLD); 绝缘薄膜; 摩擦纳米发电机(TENG); 半导体器件;
机译:金属有机化学气相沉积法使用液相前驱体制备银薄膜,并通过硒气相沉积法将其转化为硒化银薄膜
机译:脉冲激光烧蚀与催化化学气相沉积相结合的新型薄膜制备方法:在制备掺Er氢化非晶硅膜中的应用
机译:通过液相沉积(LPD)方法制备的亚甲基蓝/ TiO2杂化薄膜的表征:在光活化比色氧指示剂的制造中的应用
机译:液相化学浴沉积制备参数在纳米晶PbS薄膜生长中的作用
机译:氧化铝薄膜的化学气相沉积以及镁与氧化铝表面的相互作用
机译:雾化学气相沉积法制备纯锐钛矿相二氧化钛薄膜
机译:氧化铝负载氧化铌通过化学气相沉积制备:通过振动光谱和热重分析表征氧化铝负载氧化铌通过化学气相沉积制备:通过振动光谱和热重分析表征
机译:金属有机化学气相沉积法制备氧化铝薄膜及其表征
机译:贵金属化合物薄膜和贵金属薄膜的化学气相沉积方法以及制备化学气相沉积的有机金属化合物和化学气相沉积的金属有机化合物的方法
机译:用于化学气相沉积的有机金属化合物,用于化学气相沉积的有机金属化合物的制备方法,新型金属薄膜和用于新型金属复合薄膜的化学气相沉积的方法
机译:化学气相沉积法从烷基二烯丙基铝制备氧化铝薄膜的方法
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