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杨鹏辉; 曾志刚; 胡志宇;
上海大学纳微能源研究所;
碲化铋; 热电薄膜; 磁控溅射; 基片温度;
机译:退火温度对高压射频磁控溅射制备的柔性碲化铋薄膜的结构,机械和电性能的影响*
机译:退火对射频磁控溅射生长的碲化铋薄膜热电性能的影响
机译:退火温度对磁控溅射制备的碲化铋多层薄膜微观结构和热电性能的影响
机译:通过射频磁控溅射沉积的碲化铋薄膜的热电性能
机译:射频磁控溅射砷化镓,碲化砷硒和硅薄膜的制备和表征。
机译:射频磁控溅射法生长的锗量子点与衬底温度相关的表面形貌和光致发光
机译:功率变化对射频磁控溅射沉积HgCdTe薄膜微观结构和表面形貌的影响
机译:沉积条件对射频磁控溅射mos2薄膜的影响
机译:碲化铋薄膜的生产方法及碲化铋薄膜的生产方法
机译:均相碲碲化铋薄膜生产-通过两步气相沉积。和回火
机译:用射频磁控溅射法和薄膜太阳能电池用射频薄膜制备木质薄膜的方法
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