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用于超导平面微波电路的悬空桥制备工艺研究

     

摘要

在超导微波电路芯片中,通常存在影响信号传输和控制的杂散信号,利用超导悬空桥连接电路不同接地平面,可有效抑制微波线路中的寄生杂散模式.利用光刻胶作为支撑层,采用直流磁控溅射、反应离子刻蚀(RIE)、深紫外曝光光刻等微加工方法,制备了连接复杂微波电路不同接地平面的悬空桥结构,并给出了制备工艺流程及悬空桥结构的低温超导特性表征.试验结果表明,该悬空桥制备工艺可用于目前比较复杂的超导平面微波电路制备.

著录项

  • 来源
    《低温与超导》|2018年第10期|36-39|共4页
  • 作者单位

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

    南京大学超导电子研究所,南京210093;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

    悬空桥; 磁控溅射; 反应离子刻蚀; 光刻;

  • 入库时间 2024-01-27 02:27:34

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