平面靶直流溅射制备YBCO高温超导薄膜研究

贺镜潭; 熊杰; 陶伯万; 杜洪立; 柴刚; 肖山

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平面靶直流溅射制备YBCO高温超导薄膜研究

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开展了平面靶溅射法制备YBa2Cu3O7-δ(YBCO)高温超导薄膜工艺研究,以达到提高沉积速率的目的.通过增加工作气体总压(Pt),采用基片旋转达到离轴溅射模式,有效地克服了传统平面靶直流溅射法中高能粒子轰击和负离子反溅射现象.在两英寸LaAlO3(LAO)基片上成功外延生长得到了微观结构良好、电学性能优越(临界电流密度Jc =2.3/2.0mA/cm2)的双面YBCO高温超导薄膜.

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来源
《低温与超导》 |2008年第12期|23-27|共5页
作者
贺镜潭; 熊杰; 陶伯万; 杜洪立; 柴刚; 肖山;
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作者单位

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类电工材料;
关键词
YBCO高温超导薄膜; 平面靶直流溅射; 负离子反溅射;

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