退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
张鉴; 黄庆安; 李伟华;
东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096;
反应离子深刻蚀; 表面演化算法; 模型; 仿真;
机译:没有中间层的激光干涉光刻刻蚀阻挡层的直接深反应离子刻蚀工艺开发
机译:使用ICP低温反应离子刻蚀工艺对硅进行浅而深的干法刻蚀
机译:通过改进的深反应离子刻蚀工艺在硅中形成复杂的轮廓特征,适用于大型MEMS应用
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:锗和硅的时分复用深反应离子刻蚀—机理比较及在X射线光学中的应用
机译:自掩膜硅纳米结构在深反应离子刻蚀工艺中的制备与应用
机译:采用时间复用蚀刻 - 钝化工艺的高纵横比siC微结构深反应离子刻蚀(DRIE)
机译:通过深反应离子刻蚀制造微系统,包括例如:提供用于深反应离子刻蚀的刻蚀工具,进行包括刻蚀步骤的深离子刻蚀的多个重复处理间隔
机译:硅基太赫兹元件的多步深反应离子刻蚀制造工艺
机译:硅基TERAHERTZ组件的多步深反应离子刻蚀制备工艺
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。