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李国栋; 郑湘林; 熊翔; 孙威;
中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;
ZrC涂层; 常压化学气相沉积; H2浓度; 择优取向;
机译:间隙掺杂硼的TiO2薄膜:硼对常压化学气相沉积法生长的TiO2涂层的显著作用
机译:常压化学气相沉积钒氧化物涂层的电化学性能
机译:常压化学气相沉积法制备ZrO_2涂层的组织特征
机译:用于单晶硅太阳能电池的TiO 2 inf>抗反射涂层的常压化学气相沉积和表征
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:残余氧化杂质对合成乙醇合成的影响 石墨烯通过常压化学气相沉积
机译:高效薄膜光伏器件的常压化学气相沉积和CdTe的气相沉积
机译:常压化学气相沉积系统的感受器冷却方法和常压化学气相沉积装置
机译:常压等离子体化学气相沉积抗菌涂层
机译:用于生产光敏涂层的常压化学气相沉积工艺使用含有前驱体的气体混合物,该混合物以一定速度进行喷涂,以使前驱体与撞击基材之间的混合间隙小于0.01秒
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