退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:常压等离子体化学气相沉积抗菌涂层
公开/公告号GB0900230D0
专利类型
公开/公告日2009-02-11
原文格式PDF
申请/专利权人 CVD TECHNOLOGIES LIMITED;
申请/专利号GB20090000230
发明设计人
申请日2009-01-08
分类号
国家 GB
入库时间 2022-08-21 19:07:04
机译: 大气等离子CVD的薄膜沉积方法及大气等离子CVD系统
机译: 在大气压力下通过等离子CVD制备二氧化钛涂层的方法
机译: 在大气压下通过等离子CVD制成的氧化钛涂层。