多孔硅的表面碳膜钝化

摘要

报道对多孔硅(PS)进行碳膜(CF)钝化处理的结果.红外吸收光谱表明,经钝化处理样品的表面由Si-C、Si-N和Si-O键所覆盖;荧光光谱表明,经钝化处理的样品较未处理的样品发光强度提高4～4.5倍,且发光峰位明显蓝移;存放实验显示,经钝化处理的样品发光强度稳定、发光峰位不变.这些结果表明,正丁胺可以在多孔硅表面形成优良的钝化碳膜,是一种十分有效的多孔硅后处理途径.