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Ikeda; M; Uchida; S;
Development Center, Sony Shiroishi Semiconductor Inc.3-53-2 Shiratori, Shiroishi-shi,;
AlGaInN; 半导体激光器; 侧向外延氮化镓;
机译:在ELO-GaN层上生长的AIGaInN高功率激光器
机译:在蓝宝石衬底上生长的ELO-GaN作为GaN基激光二极管的基础层的结构分析
机译:基于AlGaInN的高功率激光器
机译:在ELO-GaN衬底上与蓝宝石衬底上生长的AlGaInN激光二极管
机译:Si衬底取向对通过闭空间升华(CSS)在不使用掩模的情况下对Si(111)和Si(211)衬底上CdTe选择性生长的质量的影响
机译:通过沉积在Mo(110)衬底上生长的金纳米粒子上的金纳米粒子上的一氧化碳氧化:电荷隧穿通过氧化膜的效果
机译:大面积硅衬底上的CVD金刚石生长大面积硅衬底上的CVD金刚石生长
机译:在HpVE生长的模板和自支撑GaN衬底上的N型GaN层的mOCVD生长和蚀刻
机译:通过在衬底上外延生长来制造氮化物单晶的方法,该方法防止衬底边缘上的生长
机译:在非晶和多晶衬底上薄膜cSi的低温异质外延生长方法以及在非晶,多晶和晶体衬底上的c-Si器件的低温异质外延生长方法
机译:制备模板,该模板包括衬底和由例如铝制成的晶体层。氮化铝包括例如在晶体生长温度下在衬底上执行材料的晶体生长,更改为第二温度并继续生长
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