铜衬底上洁净双层石墨烯薄膜的可控生长

目录

声明

第一章 绪论

1.1 引言

1.2 石墨烯的结构与性质

1.3 化学气相沉积法制备石墨烯薄膜

1.4 双层石墨烯薄膜的制备意义与现状

1.5 超洁净石墨烯薄膜的制备意义与现状

1.6 课题目的意义及思路

第二章 石墨烯的基本表征手段

2.1 引言

2.2 光学显微分析

2.3 电子显微分析

2.4 扫描探针分析

2.5 拉曼光谱分析

2.5 实验所用仪器

2.6 结论

第三章 双层石墨烯薄膜的可控制备

3.1 引言

3.2 实验设计

3.3 CVD工艺参数对双层石墨烯生长行为的影响

3.4 大面积均匀性的评估

3.5 结论

第四章 CVD法制备双层石墨烯的洁净度优化

4.1 双层石墨烯的洁净度

4.2 生长载具材质对洁净度的影响

4.3 CVD工艺参数对洁净度的影响

4.4 聚合物辅助转移工艺的优化

第五章 洁净双层石墨烯的性质研究

5.1 引言

5.2 拉曼光谱表征

5.3 光学性质

5.4 电学性质

第六章 结论与展望

5.1 结论

5.2 展望

参考文献

发表论文及参与科研情况

致谢