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刘浩; 常维; 王志强; 刘勃;
重庆京东方光电科技有限公司 重庆 400700;
ITO; 柱状不良; 结晶; 通孔刻蚀;
机译:硅通孔轮廓对用于2.5D集成的TSV中介层中钝化和金属化的影响
机译:光罩存储和光罩阶段中的光罩热匹配
机译:根据偏振状态的光罩平均目标成像特性和光罩规格以及光罩均匀性
机译:开发5.5英寸FHD LCD与BCE IGZO-TFT和Demux技术
机译:磁倾叠柱状异质结构薄膜上的矢量磁光广义椭圆图案
机译:铁氟龙/ SiO2双层钝化层可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性
机译:原子荧光钝化钴倾斜柱状薄膜的光学性质 层沉积
机译:尖头和整流罩钝化对马赫数为4.95的双锥圆柱罩进口内部性能影响的实验研究
机译:钝化曝光消除的多层光罩的非对称光罩加热及相关方法
机译:用原子层沉积钝化侧壁形成微循环结构,自对准介电通孔到顶部电触点,以及自由损伤的顶部接触
机译:具有改善的光提取效率的发光器件,能够逐步减小钝化层的折射率
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