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大电流阴极的发射性能研究

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摘要

研究了新型钡钨阴极发射性能,并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构.该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴极生产工艺,而且发射性能要优于传统工艺阴极.

著录项

来源
《电子器件》 |2003年第3期|248-252|共5页
作者
张红卫; 丁耀根; 白振纲;
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作者单位

中国科学院研究生院,北京,100080;

中国科学院电子所,北京,100080;

中国科学院电子所,北京,100080;

中国科学院电子所,北京,100080;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类电子束器件、X射线管、阴极射线管;
关键词
钡钨阴极; 工业CT; 扫描电镜; 图像分析;

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