首页> 中文期刊> 《高等学校化学学报》 >氨甲蝶呤在Co/GC离子注入修饰电极上电化学行为及其应用研究

氨甲蝶呤在Co/GC离子注入修饰电极上电化学行为及其应用研究

         

摘要

氨甲蝶呤在0.1 mol/L HAc-NaAc(pH=4.96)缓冲溶液中, 用Co/GC离子注入修饰电极进行伏安测定, 得到一良好的还原峰, 峰电位为-0.95 V(vs. SCE). 峰电流Ip与氨甲蝶呤的浓度在2.2×10-7~8.8×10-6 mol/L范围内呈线性关系, 检出限为1.1×10-8 mol/L. 建立了测定氨甲蝶呤的新方法, 可用于实际样品的测定, 回收率在98.9%~106.2%之间. 用线性扫描和循环伏安法研究了体系的电化学行为及电极反应机理. 实验表明, 氨甲蝶呤的还原为不可逆吸附过程, 并伴随两个电子和两个氢离子参与电极反应. 用俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)等表面分析技术对Co离子注入修饰电极的表面元素组成及深度分布等进行测定, 表明Co离子确被注入到玻碳表面. 扫速对催化效率的影响实验证明体系存在催化作用.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号