X射线光刻机中应用的精密定位工作台

摘要

为适应超大规模集成电路器件的发展，微电路图形的特征线宽愈来愈细的特点，发展了电子束光刻及Ｘ射线光刻，而Ｘ射线光刻由于其极高的分辨率，对未来的大规模集成电路器件的制作具有很大的应用潜力。随之而来的是要有高精度的定位工作台，以保证高套刻精度的要求。