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Method and apparatus for changing the imaging scale in X-ray lithograph

机译:X射线光刻机中改变成像比例的方法和装置

摘要

Am improved method for changing the image scale for a lithographic arrangement comprising a synchroton radiation creating a collimated beam of x-radiation passing through a mask onto an object to be structured, characterized by deforming the surface to be structured into a curved surface. The deforming into a curved surface can be either into a cylindrical curved surface or into a spherical curved surface.
机译:一种改进的用于改变光刻设备的图像比例的方法,该方法包括:同步辐射,其产生穿过掩模到达要构造的物体上的x射线的准直光束,其特征在于,将要构造的表面变形为弯曲表面。变形为弯曲表面可以是圆柱弯曲表面或球形弯曲表面。

著录项

  • 公开/公告号US4887282A

    专利类型

  • 公开/公告日1989-12-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号US19870119094

  • 发明设计人 KARL-HEINZ MUELLER;

    申请日1987-11-10

  • 分类号G21K5/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 06:08:13

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